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6m3/hEDI高純水設(shè)備

6m3/hEDI高純水設(shè)備
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· 南京天水機(jī)械設(shè)備有限公司 [江蘇省]
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聯(lián)系人: 王軍
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EDI設(shè)備工作原理:

  高純度水對(duì)許多工商業(yè)工程非常重要,比如:半導(dǎo)體制造業(yè)和制藥業(yè)。以前這些工業(yè)用的純凈水是用離子交換獲得的。然而,膜系統(tǒng)和膜處理過程作為預(yù)處理過程或離子交換系統(tǒng)的替代品越來越流行。如電除鹽過程(EDI)之類的膜系統(tǒng)可以很干凈地去除礦物質(zhì)并可以連續(xù)工作。而且,膜處理過程在機(jī)械上比離子交換系統(tǒng)簡(jiǎn)單得多,并不需要酸、堿再生及廢水中和。EDI處理過程是膜處理過程中增長(zhǎng)***快的業(yè)務(wù)之一。EDI帶有特殊水槽,水槽里的液流通道中填充了混床離子交換樹脂。EDI主要用于把總固體溶解量(TDS)為1-20mg/L的水源制成8-17兆歐純凈水。

  EDI裝置將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如圖所示。 EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開,形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽電極。在直流電的推動(dòng)下,通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng),成為濃水. EDI設(shè)備一般以反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)18 MΩ.cm(25℃),但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置,EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。

 ?。牛模裳b置的特點(diǎn)EDI裝置不需要化學(xué)再生,可連續(xù)運(yùn)行,進(jìn)而不需要傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備再生所需的酸堿液,以及再生所排放的廢水。

EDI設(shè)備模塊結(jié)構(gòu)特點(diǎn):

  1、淡水隔板采用衛(wèi)生級(jí)PE材料

  2、EDI膜片采用進(jìn)口均相膜和國產(chǎn)異相離子交換膜

  3、采用進(jìn)口EDI專用均粒樹脂和國產(chǎn)EDI專用均粒樹脂

  4、EDI電極板采用鈦鍍釕技術(shù)

  5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成。

  6、固定螺絲采用國標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)件

  7、膜堆出廠***高試壓7bar不漏水

  8、膜堆電阻低、功耗小

  9、外觀裝飾板造型美觀結(jié)實(shí)

  10、***大膜堆處理水量3T/H,***小模堆處理水量75L/H

  11、純水、濃水、極水通道設(shè)計(jì)合理,不易堵塞,水流分布均勻、無死角。

EDI設(shè)備進(jìn)水指標(biāo)要求:

  ◎通常為單級(jí)反滲透或二級(jí)反滲透的滲透水

  ◎TEA(總可交換陰離子,以CaCO3計(jì)):<25ppm。

  ◎電導(dǎo)率:<40μS/cm

  ◎PH:6.0~9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時(shí),EDI***佳工作的pH范圍為8.0~9.0。

  ◎溫度: 5~35℃。

  ◎進(jìn)水壓力:<4bar(60psi)。

  ◎硬度:(以CaCO3計(jì)):<1.0ppm。

  ◎有機(jī)物( TOC):<0.5ppm。

  ◎氧化劑:Cl2<0.05ppm,O3<0.02ppm。

  ◎變價(jià)金屬: Fe<0.01ppm,Mn<0.02ppm。

  ◎H2S:<0.01ppm。

  ◎二氧化硅:<0.5ppm。

  ◎色度:<5APHA。

  ◎二氧化碳的總量:<10ppm

  ◎ SDI 15min:<1.0。

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